特許

J-GLOBAL ID：200903006577190384

常圧過熱蒸気を熱源とする処理装置

発明者： 小野 達實
出願人/特許権者： 小野 達實 ,  アオキ工業株式会社
代理人 (1件)： 千葉 太一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-125385
公開番号（公開出願番号）：特開2004-332956
出願日： 2003年04月30日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】過熱蒸気を熱源とし、常圧下の少酸素雰囲気で高温加熱し、熱効率がよく、短時間での処理が可能で、殺菌、滅菌もできる処理装置を提供する。【解決手段】処理装置1は、処理物の投入口2、排出口3、回転撹拌羽根4を備えた処理室5と、処理室5内に配置し、一端は処理室5内で開口して過熱蒸気吐出口16となり、他端は処理室5外で開口して蒸気を導入する導入口となるとともに、電圧が印加されて導入した蒸気を加熱して過熱蒸気にするパイプヒータ14と、ブロア28で処理室5内の過熱蒸気やガスを吸気還流パイプ29内に吸引し、脱臭器26で脱臭及び濾過したうえ処理室5内に再度供給する循環機構と、印加電圧、蒸気等の供給量、処理時間等の作業条件を設定し、設定条件を維持するよう制御するコントローラとからなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理物の投入部と排出部を備えた処理室と、電圧が印加されてパイプ内に導入した蒸気又は水を加熱し過熱蒸気にして前記処理室に供給するパイプヒータと、ブロアで前記処理室内の過熱蒸気やガスを吸引しその移動経路上で脱臭及び濾過したうえ前記処理室内に再度供給する循環機構と、印加電圧、蒸気等の供給量、処理時間等の作業条件を設定し、設定条件を維持するよう制御する制御部とからなる常圧過熱蒸気を熱源とする処理装置。

IPC (4件)：

F26B9/06 ,  A61L2/06 ,  B09B3/00 ,  F26B21/00

FI (4件)：

F26B9/06 Q ,  A61L2/06 G ,  F26B21/00 P ,  B09B3/00 303M

Fターム (57件)：

3L113AA07 ,  3L113AB05 ,  3L113AC08 ,  3L113AC15 ,  3L113AC58 ,  3L113AC67 ,  3L113AC87 ,  3L113CB05 ,  3L113CB23 ,  3L113DA02 ,  4B021LA01 ,  4B021LA41 ,  4B021LP04 ,  4B021LT03 ,  4B021LW09 ,  4B021MC01 ,  4B022LA01 ,  4B022LA04 ,  4B022LA07 ,  4B022LA08 ,  4B022LB01 ,  4B022LF01 ,  4B022LQ03 ,  4B022LR01 ,  4B022LT04 ,  4B022LT07 ,  4B035LP01 ,  4B035LP24 ,  4B035LP44 ,  4B035LT01 ,  4C058AA12 ,  4C058AA21 ,  4C058AA24 ,  4C058AA25 ,  4C058BB05 ,  4C058CC08 ,  4C058CC10 ,  4C058DD03 ,  4C058DD05 ,  4C058DD07 ,  4C058JJ28 ,  4D004AA03 ,  4D004AB01 ,  4D004BA04 ,  4D004BA10 ,  4D004CA15 ,  4D004CA24 ,  4D004CA26 ,  4D004CA42 ,  4D004CA46 ,  4D004CA48 ,  4D004CB04 ,  4D004CB27 ,  4D004CB31 ,  4D004CC03 ,  4D004DA02 ,  4D004DA06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 過熱水蒸気処理炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-403192   出願人：鶴巻國夫
• 厨芥処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-302230   出願人：シャープ株式会社, シャープマニファクチャリングシステム株式会社
• 特開平3-140790