特許

J-GLOBAL ID：200903006591561018

透明導電膜形成用組成物の製造方法

発明者： 土岐 元幸 ,  會澤 守
出願人/特許権者： 株式会社関西新技術研究所
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-168266
公開番号（公開出願番号）：特開平8-339723
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】 300°C以下の低温でガラスやセラミックスなどの基板上に導電率の高い透明導電膜を形成することができる組成物を、ゾル-ゲル法を利用して製造するための方法を提供する。【構成】 インジウムアルコキシド及びその20モル%以下の量のスズアルコキシドを、酸アミド及び酸性触媒の存在下で加水分解させる。

請求項（抜粋）：

インジウムアルコキシドIn(OR)3(R:炭素数3〜5のアルキル基)及びそのインジウムアルコキシドに対して20モル%以下の量のスズアルコキシドSn(OR’)4(R’:炭素数3〜5のアルキル基)を、酸アミド及び酸性触媒の存在下で加水分解させることを特徴とする透明導電膜形成用組成物の製造方法。

IPC (3件)：

H01B 13/00 503 ,  C03C 17/25 ,  C23C 18/12

FI (3件)：

H01B 13/00 503 C ,  C03C 17/25 A ,  C23C 18/12