特許
J-GLOBAL ID：200903006592058999
現像装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164205
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349725
出願日： 1993年06月08日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 簡易な構成により基板表面に現像液を均一な厚さに盛ることができる現像装置を提供する。【構成】 基板1表面にノズル2から現像液Lを供給した後、当該基板1の表面と所定の間隔をおいて保持されたスィープバー4を、一軸ローダ5により当該基板1の表面と平行に移動させることにより、現像液Lをならして拡散し、その厚さを均一にする。【効果】 基板表面における現像液の供給ムラがなくなり、精度のよい現像処理が可能となる。
請求項（抜粋）：
基板上に塗布され所定のパターンに露光されたレジスト膜を現像する現像装置において、前記基板の表面に現像液を供給する現像液供給手段と、前記現像液が前記基板表面の全体に均一に行き渡るように、前記供給された現像液を拡散させる現像液拡散手段と、を備えることを特徴とする現像装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
