特許
J-GLOBAL ID：200903006592781461

位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法

発明者：
野澤 順

野澤 順 について

, 
三井 勝

三井 勝 について

, 
三ッ井 英明

三ッ井 英明 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-243317
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162726
出願日： 2001年08月10日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】 所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 透明基板上に、光半透過膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法であって、前記透明基板上に、窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする薄膜からなる光半透過膜を形成した後、該光半透過膜を150°C以上で熱処理を行うことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、光半透過膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法であって、前記透明基板上に、窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする薄膜を少なくとも1層含む光半透過膜を形成した後、該光半透過膜を150°C以上で熱処理を行うことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 G ,  G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (6件)：
2H095BB03 ,  2H095BB31 ,  2H095BB37 ,  2H095BB38 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24
引用特許：
審査官引用 (9件)
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