ポジ型ホトレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246524
公開番号（公開出願番号）：特開平5-061195
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【構成】 (a)m-クレゾール25〜45重量%、p-クレゾール41〜60重量%及び3,5-キシレノール10〜30重量%から成る混合フェノール化合物と、(b)ホルムアルデヒドとp-ヒドロキシベンズアルデヒドやo-ヒドロキシベンズアルデヒドとの混合アルデヒドとを縮合させて得られたアルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基含有化合物を含むポジ型ホトレジスト組成物である。【効果】優れた感度及び解像性を有し、高耐熱性のレジストパターンを与えることができ、かつデフォーカスンマージンが広く、特に半導体素子の製造分野において好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基含有化合物とを含むポジ型ホトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂が(a)m-クレゾール25〜45重量%、p-クレゾール41〜60重量%及び3,5-キシレノール10〜30重量%から成る混合フェノール化合物と、(b)ホルムアルデヒドとp-ヒドロキシベンズアルデヒド又はo-ヒドロキシベンズアルデヒド若しくはその両方との混合アルデヒドとの縮合生成物であることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開昭64-090250
特開昭64-090250
特開平2-084414

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