特許

J-GLOBAL ID：200903006608354160

キノリル基を有するジアリールエテン系化合物

発明者： 椛澤 誠 ,  石川 篤 ,  藤野 泰光 ,  堀川 幸雄 ,  入江 正浩
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151454
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330762
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】一般式にて示されるジアリールエテン系化合物。(式中、nは2〜5の整数,R1 、R2 、R3 、R4 はアルキル基,R5 はメトキシフェニル基、シアノフェニル基、ナフチル基、又はジアルキルアミノフェニル基のいずれかを表す。)【効果】上記化合物は熱安定性、耐湿性、感度、溶媒への溶解性に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性が良好なフォトクロミック性を有し、性能の優れた可逆的光記録材料などに有効に利用することが出来る。

請求項（抜粋）：

下記一般式化1にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数,Aは下記一般式【化2】Bは下記一般式【化3】R1 ,R2 ,R3 ,R4 はアルキル基,R5 は下記一般式【化4】【化5】【化6】【化7】で示されるメトキシフェニル基,シアノフェニル基,ナフチル基,又は、ジアルキルアミノフェニル基のいずれかを表す。)

IPC (4件)：

C07D409/06 215 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503 ,  G11B 7/24 516