特許

J-GLOBAL ID：200903006609528048

位置合わせ方法、露光装置及びX線露光用マスク

発明者： 古賀 啓介 ,  安井 十郎
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-138989
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161631
出願日： 1994年06月21日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】 高精度な位置合わせのできる露光装置を提供する。【構成】 101はX線マスク、102はウェハ、103は基準マーク、104はウェハステージ、105は単色光の光源を有する位置検出光学系、106は位置検出用単色光、107は回折格子からの回折光、108は光検出器、109は位置検出制御手段である。単色光の光源を有する位置検出光学系として、高い位置検出性能を有するヘテロダイン位置検出方法がよく用いられている。この場合、マスク101およびウェハ102上に設けられた位置検出用の回折格子上に±一次の方向から単色光106が照射される。

請求項（抜粋）：

マスク上に設けた第一の回折格子とウェハ上に設けた第二の回折格子とを一定の間隔を隔てて対向させて配置し、これらの回折格子に単色光を光源とする位置合わせ光学系から位置合わせ光を入射させ、両回折格子から生じる回折光を用いてマスクとウェハの相対位置を検出し位置合わせを行う方法において、位置合わせを行う前にウェハステージ上に設けた基準マークを用いて前記位置合わせ光学系の信号を検出し、その結果を予め設定された計算式により前記位置合わせ光学系の誤差として算出してオフセットデータとして登録を行い、露光を行う際に前記登録したオフセットデータに基づきマスクとウェハ間隔の条件によって発生する誤差を計算し、位置合わせ結果の補正を行ってマスクとウェハの位置合わせを行うことを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 531 J ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 M

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-272406