特許
J-GLOBAL ID:200903006618852680
面発光レーザ、電子機器及び面発光レーザの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
大森 純一
, 矢口 太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-330125
公開番号(公開出願番号):特開2004-165461
出願日: 2002年11月13日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】簡単な構造で閾値電流を低減化できる面発光レーザ、その面発光レーザを備える電子機器及びその面発光レーザの製造方法を提供すること。【解決手段】半導体層上面から光の共振方向に沿って電流が注入される第1の領域の外側に第1の領域を取り囲むように、電流の拡散を規制する規制領域を具備することとしたので、第1の領域に注入された電流は第1の領域の外には漏れにくく確実にレーザ光の発振に作用することとなり、閾値電流を低減化できる。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
第1の屈折率を有し光を共振する第1の領域を有する半導体層と、
前記第1の領域に電流を注入する電極と、
前記電極に接する半導体層上面から光の共振方向に沿って前記第1の領域を取り囲み、前記第1の領域外への電流の拡散を規制する規制領域と
を具備することを特徴とする面発光レーザ。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (13件):
5F073AA07
, 5F073AA20
, 5F073AA22
, 5F073AA65
, 5F073AB17
, 5F073BA04
, 5F073BA06
, 5F073BA07
, 5F073CA05
, 5F073DA25
, 5F073EA16
, 5F073EA23
, 5F073EA24
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