特許

J-GLOBAL ID：200903006624665850

レジスト塗布装置

発明者： 市村 幸雄 ,  水戸部 巧一 ,  並木 淳一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-020540
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211626
出願日： 1995年02月08日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：

【要約】【目的】ガラス基板に塗布するレジストの膜厚を均一にして、高品質の塗膜を形成する。【構成】ニップローラ2とロールバー3の間にガラス基板1を通過させ、回転するロールバー3の上方から対接して押圧するニップローラ2の間にガラス基板1を所定の速度で搬送しながらその下面にレジスト溶液を接触させて所望の厚さのレジスト膜を形成するレジスト塗布装置において、ニップローラ2の前記ガラス基板1へのレジスト塗布領域に接する長手方向直径を当該レジスト塗布領域の中央部と周辺部とで異ならせた。

請求項（抜粋）：

レジストの溶液を貯留する受け皿と、少なくとも周面の一部を前記レジスト溶液に没設して回転するロールバーと、前記受け皿に取付けて前記ロールバーを回転可能に保持するロールバー保持部材と、前記ロールバーに上方から対接して押圧するニップローラの間にガラス基板を所定の速度で搬送しながら前記ガラス基板の下面に前記ロールバーで汲み上げたレジスト溶液を接触させると共に、余剰のレジスト溶液を掻き取ることにより、所望の厚さのレジスト膜を形成するレジスト塗布装置において、前記ニップローラの前記ガラス基板へのレジスト塗布領域に接する長手方向直径を当該レジスト塗布領域の中央部と周辺部とで異ならせたことを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (4件)：

G03F 7/16 501 ,  B05C 1/02 102 ,  F16C 13/00 ,  G02B 5/20 101