特許

J-GLOBAL ID：200903006635845400

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 山本 裕之
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-013594
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228301
出願日： 2003年01月22日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】基板の表面を処理したあとの処理液の廃液を効率よく回収し、処理後の基板表面に処理液の廃液が再付着したり、長く滞留することがないように基板を処理する。【解決手段】対向して設けられる一対の処理液供給ノズル2a,2bから噴射される処理液3a,3bは、基板4の表面4aに供給された後、衝突して矢符5a,5bの方向に吹き上がり、それとともに液滴およびミストが発生する。吹き上がった処理液3a,3bの廃液は廃液収容部8に収容され、廃液排出孔9から排出される。液滴およびミストは、廃液回収手段6内を上昇し、一部が天板7の傾斜面7a,7bに捕捉されて大きな液滴に成長し、廃液収容部8に落下して収容される。液滴およびミストの一部は、天板7の傾斜面7a,7bに捕捉されることなく、ミスト排出孔10から排出される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板の処理されるべき表面に基板を処理するための処理液を供給する処理液供給手段と、基板の処理に用いられた後の処理液およびミストを回収する廃液回収手段とを含む基板処理装置であって、 前記処理液供給手段は、処理液を基板に向けて噴射する複数の処理液供給ノズルを有し、複数の処理液供給ノズルは、基板の処理されるべき表面から間隔をあけて処理液を噴射する方向が対向するように設けられ、 前記廃液回収手段は、対向して設けられる複数の処理液供給ノズルの間に配置され、処理液供給ノズルから処理液の噴射される方向に対して直交する方向に延びて設けられることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/304 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

FI (6件)：

H01L21/304 643B ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 648K ,  G03F7/30 501 ,  H01L21/30 569A ,  H01L21/306 J

Fターム (10件)：

2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096GA26 ,  2H096GA60 ,  5F043EE07 ,  5F043EE33 ,  5F043EE36 ,  5F046LA04 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07