特許
J-GLOBAL ID：200903006652461593
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-341356
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161699
出願日： 1993年12月10日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 被処理体を載置台に押圧機構により押圧する際或いは離反する際のパーティクルの発生を抑制し、被処理体の歩留りを向上することができるプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】 被処理体Wの外周縁部を押圧面22によって載置台4の所定位置に押圧し保持する押圧機構18を具備し、前記被処理体Wに処理を施す処理装置1であって、前記押圧面22の内周側に廂部23を形成したことを特徴とする処理装置。
請求項（抜粋）：
被処理体の外周縁部を押圧面によって載置台の所定位置に押圧し保持する押圧機構を具備し、前記被処理体に処理を施す処理装置であって、前記押圧面の内周側に廂部を形成したことを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/68
