特許

J-GLOBAL ID：200903006654370200

フォトリソプロセスモニタ方法および装置

発明者： 石内 正宏 ,  田宮 洋一郎 ,  金井 昭司 ,  大金 信哉 ,  蓮見 啓二 ,  渡瀬 進一郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-128462
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326391
出願日： 1992年05月21日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 フォトリソプロセスにおける半導体ウェハの検査に際し、リアルタイムで不良製品を発見し、不良製品数を最小限に減少させ、検査時間および検査人員を減少させる。【構成】 フォトリソプロセスモニタ装置において、フォトレジスト現像状態をモニタリングする現像状態モニタリング部2と、前記モニタリングしたフォトレジスト現像状態から最適現像時間を演算処理により算出する最適現像時間演算処理部5と、現像時間に設けた上限と下限とで設定される現像時間制御範囲内に最適現像時間があるかどうかにより製品異常の有無を判定する製品異常判定部6と、製品が異常のとき警報を発生させる警報発生部7と、前記異常が重度であるかどうかを判定する異常重度判定部8とを備えた構造とした。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト現像状態をモニタリングし、このモニタリングしたフォトレジスト現像状態から異常の有無を判定し、異常があるとき警報を発生させ、さらに前記異常の重度の有無を判定し、異常が重度であるとき現像処理を中止することを特徴とするフォトリソプロセスモニタ方法。