半導体洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-290781
公開番号（公開出願番号）：特開平6-120194
出願日： 1992年10月05日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】複数の薬液槽をもって半導体基板を効率良く洗浄することができ、かつスペース効率の改善された半導体洗浄装置を提供する。【構成】半導体基板の搬入部1、搬出部9及び複数の薬液槽2〜8をループ状に配置し、その中に搬送機構10を設けたことにより、半導体基板の槽間移動時間の短縮が図れ、更に洗浄装置全体の省スペース化も図れる。

請求項（抜粋）：

複数の薬液槽と、前記各薬液槽へ半導体基板を搬送する機構とを有する半導体洗浄装置であって、前記半導体基板の搬入部、搬出部及び前記各薬液槽をループ状に配置し、その中に搬送機構を設けたことを特徴とする半導体洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/68

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