特許
J-GLOBAL ID：200903006678472593
電子ビーム露光の方法と装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060163
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267140
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 近接効果を低減した電子ビーム露光の方法と装置に関し、簡単な手順の追加により、近接効果を低減することのできる電子ビーム露光方法を提供することを目的とする。【構成】 電子ビームで露光しようとするパターンデータを準備する工程と、対象パターンの大きさ、隣接パターンまでの距離、隣接パターンの大きさに基づき、要求される解像度を満足する電子ビームのショットサイズを選択し、対象パターンが大きいときは対象パターンを分割して要求される解像度を満足する小区画パターンに修正する工程と、前記対象パターンを選択されたショットサイズの電子ビームで描画する工程を含む。
請求項（抜粋）：
電子ビームで露光しようとするパターンデータを準備する工程と、対象パターンの大きさ、隣接パターンまでの距離、隣接パターンの大きさに基づき、要求される解像度を満足する電子ビームのショットサイズを選択し、対象パターンが大きいときは対象パターンを分割して要求される解像度を満足する小区画パターンに修正する工程と、前記対象パターンを選択されたショットサイズの電子ビームで描画する工程を含む電子ビーム露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 M
, H01L 21/30 341 J
