特許

J-GLOBAL ID：200903006680433775

X線装置

発明者： 植木 広則 ,  植田 健 ,  馬場 理香 ,  河合 浩之 ,  川口 文男
出願人/特許権者： 株式会社日立メディコ
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-296092
公開番号（公開出願番号）：特開平11-128212
出願日： 1997年10月29日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】 平面X線検出器を使用した場合におけるX線透視時およびX線撮影時のX線量を適正に制御することが可能なX線装置を提供すること。【解決手段】 X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と、前記X線の照射野を制限するX線照射野制限手段と、前記被検体を透過した後のX線像を撮像する撮像手段と、前記被検体を透過したX線強度を計測するX線強度計測手段と、該計測値に基づいて照射X線のエネルギー分布および出力量を所定の値に調整するX線出力調整手段とを有するX線装置において、前記撮像手段は、半導体基板に複数個のX線検出素子を形成した平面撮像手段からなり、当該撮像手段のX線の入力面とは反対の側に前記X線強度計測手段を配置する。

請求項（抜粋）：

X線を発生し被検体に照射するX線照射手段と、前記X線の照射野を制限するX線照射野制限手段と、前記被検体を透過した後のX線像を撮像する撮像手段と、前記被検体を透過したX線強度を計測するX線強度計測手段と、該計測値に基づいて照射X線のエネルギー分布および出力量を所定の値に調整するX線出力調整手段とを有するX線装置において、前記撮像手段は、半導体基板に複数個のX線検出素子を形成した平面撮像手段からなり、当該撮像手段のX線の入力面とは反対の側に前記X線強度計測手段を配置したことを特徴とするX線装置。

IPC (2件)：

A61B 6/00 300 ,  H05G 1/44

FI (2件)：

A61B 6/00 300 S ,  H05G 1/44 A