特許

J-GLOBAL ID：200903006687495431

電子ビーム露光装置

発明者： 西村 英二 ,  玉虫 秀一 ,  和田 寛次 ,  滝川 忠宏 ,  安瀬 博人
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239561
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082430
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】 高精度な描画ができ、スループットが向上できることを目的とする。【構成】 一方のビーム成形用アパーチャマスク12の形状を矩形に形成し、他方のビーム成形用アパーチャマスク13を2つの矩形の間に45°回転した矩形が介装する形状に形成した。

請求項（抜粋）：

2枚のビーム成形用アパーチャマスクを備え、前記2枚のビーム成形用アパーチャマスクの電子光学的重なりにより成形された電子ビームを試料上に照射して、前記試料を所望パターンに露光する電子ビーム露光装置において、一方の前記ビーム成形用アパーチャマスクの形状を矩形に形成し、他方の前記ビーム成形用アパーチャマスクを2つの矩形の間に45°回転した矩形が介装する形状に形成したことを特徴とする電子ビーム露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 341 Q ,  H01L 21/30 341 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-112729
  
• 特開昭59-169131
  
• 特開平3-205815
  
• 特開平4-302413