特許

J-GLOBAL ID：200903006703511671

炭酸ジフェニルの製造方法

発明者： 水上 政道 ,  大信田 卓朗 ,  大木 宏明
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-162343
公開番号（公開出願番号）：特開平9-012511
出願日： 1995年06月28日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】【目的】 安全かつ安定的に炭酸ジフェニルを得る方法を提供する。【構成】 連続的に炭酸ジフェニルを製造するにあたり、ホスゲンと有機溶媒とを共に反応器に導入することを特徴とする、炭酸ジフェニルの製造方法。【効果】 本発明の方法により、ホスゲン導入管の閉塞がなく、安全かつ安定的に炭酸ジフェニルを得ることができる。

請求項（抜粋）：

連続的に炭酸ジフェニルを製造するにあたり、ホスゲンと有機溶媒とを共に反応器に導入することを特徴とする、炭酸ジフェニルの製造方法。

IPC (2件)：

C07C 69/96 ,  C07C 68/02

FI (2件)：

C07C 69/96 Z ,  C07C 68/02 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭38-018686
  
• 特許第841654号
  
• 特公昭38-018686
  
• 特許第841654号