特許

J-GLOBAL ID：200903006707458473

薄膜形成用マスク

発明者： 並河 康訓 ,  谷口 秀樹
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-033614
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243021
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】マスクが素体を確実に位置決めし、被着陰部を形成する金属板の厚みT1が薄く且つ曲げ強度が強い薄膜形成用マスクを提供することにある。【構成】飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの薄膜を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、薄膜形成される素体を位置決めするための第1の貫通孔を有する第1の金属板と、前記所定パターンに対応する第2の貫通孔を有する第2の金属板と、が接合されて構成され、前記第1及び第2の金属板の少なくとも一方の金属板に突起が形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの薄膜を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、薄膜形成される素体を位置決めするための第1の貫通孔を有する第1の金属板と、前記所定パターンに対応する第2の貫通孔を有する第2の金属板と、が接合されて構成され、前記第1及び第2の金属板の少なくとも一方の金属板に突起が形成されていることを特徴とする薄膜形成用マスク。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-142075
  
• 特開昭53-015274
  
• 特開平4-013858