特許
J-GLOBAL ID:200903006710331042
潤滑被膜形成用スパッタリングターゲット材
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
宮崎 新八郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-043575
公開番号(公開出願番号):特開平7-252648
出願日: 1994年03月15日
公開日(公表日): 1995年10月03日
要約:
【要約】【目的】 機械・装置部材の摺動部の表面処理として、スパッタリングにより潤滑性保護被膜を形成するためのターゲット材を提供する。【構成】 このターゲット材は、MoS2 ,Cの固体潤滑材の1種もしくは2種1〜10重量%を含み、所望により、(i)Sn,Pbの1種もしくは2種1〜20重量%、(ii)周期律表第5A,6A,8族の遷移金属から選ばれる1種ないし2種以上1〜30重量%、を含有し、残部は実質的にCu及び/又はAgからなる混合粉末の加圧焼結体(熱間静水圧加圧焼結法等による)である。
請求項(抜粋):
MoS2 ,Cの1種もしくは2種の固体潤滑剤1〜10重量%を含有し、残部は実質的にCuまたは/およびAgからなる混合粉末の加圧焼結体であることを特徴とする潤滑被膜形成用スパッタリングターゲット材。
IPC (5件):
C23C 14/34
, C22C 32/00
, F16N 15/00
, B22F 3/15
, C22C 1/05
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