特許

J-GLOBAL ID：200903006713879570

光学部品の反射防止処理液及び反射防止処理光学部品

発明者： 加藤 裕久 ,  田中 尚広
出願人/特許権者： 伊藤光学工業株式会社
代理人 (1件)： 飯田 堅太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010257
公開番号（公開出願番号）：特開平5-196802
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【構成】 コロイダルシリカと混合したケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁するまでコロイド溶液化して調製されてなる反射防止処理液において、反射防止処理液に、下記一般式で示されるフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物が添加混合されていることを特徴とする。F3 C-(CF2 )-a R1 Si( OR2)3(但し、R1 は炭素数1〜4のアルキレン基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aは0〜10の整数である。)【効果】 光学部品における反射防止処理膜の耐熱水性及び耐汚染性が向上する。

請求項（抜粋）：

コロイダルシリカと混合した一般式(a) で示されるケイ酸エステルを加水分解し、さらに、白濁するまでコロイド溶液化して調製されてなる反射防止処理液において、該反射防止処理液に、一般式(b) で示されるフッ化アルキルアルコキシシランの加水分解物が添加混合されていることを特徴とする光学部品の反射防止処理液。(a) Si(OR)4(但し、Rは炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基である。)(b) F3 C-(CF2 )-a R1 Si( OR2)3(但し、R1 は炭素数1〜4のアルキレン基、R2 は炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基であり、aは0〜10の整数である。)