特許

J-GLOBAL ID：200903006720579506

マルチビーム出射装置およびこれを用いたマルチビーム加工装置

発明者： 石山 雅三
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 中島 司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-218834
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042239
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】 検出精度の悪いセンサを用いても、ビーム間隔を精度よく調整することができるマルチビーム出射装置を提供する。【解決手段】 CPUは、レーザダイオードLD1を点灯させ(ステップS505)、CCDラインセンサの各画素ごとの出力値を取得する(ステップS506)。レーザダイオードLD2をレーザビームLB1と同じ光量で点灯させ(ステップS507)、リニアステッピングアクチュエータをステップ駆動させる(ステップS508)ことによりレーザビームLB2のビーム軸をレーザビームLB1のビーム軸に接近させ、CCDラインセンサの各画素ごとの出力値が2倍になたのを取得することにより(ステップS509)、レーザビームLB1,LB2の照射位置の一致と判断する。そして、CPUは、正規の間隔に対応するステップ数Nを取得し(ステップS513)、リニアステッピングアクチュエータをステップ数Nだけ駆動させる(ステップS514)。

請求項（抜粋）：

複数の光ビームを間隔をおいて所定の照射面に照射するマルチビーム出射装置であって、第1の光ビームを前記照射面又はそれと等価な面上で受光する受光手段と、第2の光ビームの前記照射面上における照射位置を移動させる光ビーム移動手段と、前記受光手段の出力を監視し、第2の光ビームの照射位置が第1の光ビームの照射位置とほぼ一致するまで光ビーム移動手段を制御する第1制御手段と、2つの光ビームの正規の間隔とその間隔を得るのに必要な光ビーム移動手段の制御量との対応関係を記憶している記憶手段と、前記記憶手段の記憶している制御量だけ、第2の光ビームの照射位置を第1の光ビームの照射位置と一致後移動するように光ビーム移動手段を制御する第2制御手段と、を備えることを特徴とするマルチビーム出射装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 26/08 ,  H04N 1/113

FI (6件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 F ,  G02B 26/08 A ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (26件)：

2C362AA09 ,  2C362AA48 ,  2C362BA57 ,  2C362BA61 ,  2C362BA71 ,  2C362BA89 ,  2H041AA12 ,  2H041AB26 ,  2H041AC01 ,  2H041AZ03 ,  2H041AZ06 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CA02 ,  2H045CA88 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA04 ,  5C072EA05 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA10 ,  5C072HA11 ,  5C072HA13 ,  5C072HB08