特許

J-GLOBAL ID：200903006737116720

光学活性4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンの製造法

発明者： 清田 洋正 ,  中林 美穂 ,  折谷 隆之
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-201185
公開番号（公開出願番号）：特開2001-025396
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】 光学活性4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンを高収率かつ高い光学純度で、工業的に有利に製造する方法を提供する。【解決手段】 式(1)【化1】で示される(±)-4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンを、不斉アシル化能を有する酵素の存在下、クロロ酢酸エステルと反応させて式(2)【化2】で示される光学活性4-オキソ-3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセニルクロロアセテートを得、得られた光学活性4-オキソ-3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセニルクロロアセテートを加溶媒分解することを特徴とする式(3)【化3】で示される光学活性4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンの製造法(上記式中、*は不斉炭素原子を表す。)。

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】で示される(±)-4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンを、不斉アシル化能を有する酵素の存在下、クロロ酢酸エステルと反応させて式(2)【化2】(式中、*は不斉炭素原子を表す。)で示される光学活性4-オキソ-3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセニルクロロアセテートを得、得られた光学活性4-オキソ-3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセニルクロロアセテートを加溶媒分解することを特徴とする式(3)【化3】(式中、*は前記定義のとおりである。)で示される光学活性4-ヒドロキシ-2,6,6-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オンの製造法。

IPC (3件)：

C12P 7/62 ,  C07C 49/713 ,  C07M 7:00

FI (2件)：

C12P 7/62 ,  C07C 49/713

Fターム (21件)：

4B064AC37 ,  4B064BH01 ,  4B064BH02 ,  4B064BH04 ,  4B064CA02 ,  4B064CA05 ,  4B064CA06 ,  4B064CA21 ,  4B064CB03 ,  4B064CC03 ,  4B064CD05 ,  4B064CD27 ,  4B064DA10 ,  4B064DA11 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006AC81 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BD70