特許
J-GLOBAL ID：200903006743514304
透明導電性基板およびその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-136523
公開番号（公開出願番号）：特開平7-235220
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】 表面抵抗が小さく、光学特性に優れかつ耐候性に優れた透明導電性基板を得る。【構成】 酸化物超微粉を溶剤中に分散せしめてなる透明導電インクを透明基板上に塗布、乾燥した後、透明基板上にシリカゾルを主成分とするオーバーコート液を塗布し、次いで乾燥または乾燥、焼成することにより、比抵抗が0.01〜0.5Ω・cm、ヘーズ値が0〜2%、体積含有濃度40〜75%の透明導電性基板を得る。
請求項（抜粋）：
可視光線を透過する基板と、該基板上に形成された平均粒径0.1μm以下の酸化物超微粉が、シリカを主成分とするバインダー中に分散した透明導電膜と、該透明導電膜上に形成されたシリカを主成分とするオーバーコート膜とから構成される透明導電性基板であって、該透明導電膜の酸化物超微粉の体積含有濃度が40〜75%であり、該透明導電膜の比抵抗が0.01〜0.5Ω・cmであり、膜のヘーズ値が該透明導電膜の厚さが0.5〜2μmのとき0.5〜2%、該透明導電膜の厚さが0.5μm未満のとき0〜1%であることを特徴とする透明導電性基板。
IPC (3件)：
H01B 5/14
, H01B 13/00 503
, H05K 9/00
