特許

J-GLOBAL ID：200903006748445513

塩化ケイ素を含有する有害ガスの浄化剤及び浄化方法

発明者： 大塚 健二 ,  荒川 秩 ,  古浦 永生
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231955
公開番号（公開出願番号）：特開2001-054719
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2001年02月27日
要約：

【要約】【課題】 有害成分として塩化ケイ素を含む有害ガスを浄化するための浄化剤または浄化方法において、該ガス中に含まれる塩化ケイ素が低濃度であっても、また該ガスが乾燥したガスであっても高い浄化能力が得られる浄化剤及び浄化方法を提供する。【解決手段】 酸化第二銅、BET比表面積が130m2/g以上の二酸化マンガン及びアルカリ金属の水酸化物を浄化剤の有効成分とする。また、塩化ケイ素を含む有害ガスを、前記浄化剤と接触させて浄化する。

請求項（抜粋）：

酸化第二銅、BET比表面積が130m2/g以上の二酸化マンガン及びアルカリ金属の水酸化物を有効成分とすることを特徴とする塩化ケイ素を含有する有害ガスの浄化剤。

IPC (4件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01J 20/06

FI (4件)：

B01D 53/34 134 A ,  B01J 20/06 B ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 120 A

Fターム (34件)：

4D002AA18 ,  4D002AA26 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA15 ,  4D002CA07 ,  4D002DA01 ,  4D002DA03 ,  4D002DA11 ,  4D002DA12 ,  4D002DA23 ,  4D002DA24 ,  4D002GA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002HA03 ,  4G066AA13B ,  4G066AA15B ,  4G066AA26B ,  4G066BA09 ,  4G066BA22 ,  4G066BA26 ,  4G066CA21 ,  4G066CA31 ,  4G066DA02 ,  4G066DA20 ,  4G066FA05 ,  4G066FA22 ,  4G066FA27 ,  4G066FA34 ,  4G066FA37