特許
J-GLOBAL ID：200903006755415727
超微粒子膜製造装置及び超微粒子膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-285032
公開番号（公開出願番号）：特開2003-089866
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：
【要約】【課題】 超微粒子膜が裾を引いたり、キャリアガスが基板衝突後周囲に拡散する流れに乗り、膜以外の部分へ超微粒子が飛散するのを防止する。【解決手段】 超微粒子生成室で生成された超微粒子を、キャリアガスとともに搬送管を通して膜形成室に導き、膜形成室内のステージ上に設置された基板10上に垂直な姿勢にて配置したノズル4を通じて噴射し成膜するガスデポジション法を用い、膜形成室内へ超微粒子を噴射するノズル4の近傍両側にガスを噴射するガス噴射ノズル14を設け、ガス噴射ノズル14より噴射されたガスの流れ18により進行方向を流れ11,12から変えた超微粒子を含むキャリアガスの流れ19を基板10に衝突させて、該基板10上に超微粒子膜の描画ライン17を形成する。
請求項（抜粋）：
超微粒子生成室で生成された超微粒子を、キャリアガスとともに搬送管を通して膜形成室に導き、該膜形成室内のステージ上に設置された基板上にノズルを通じて噴射し成膜するガスデポジション法を行う超微粒子膜製造装置において、前記膜形成室内へ超微粒子を噴射するノズルの近傍にガスを噴射するガス噴射ノズルを設けたことを特徴とする超微粒子膜製造装置。
Fターム (5件)：
4K029AA09
, 4K029BA04
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029HA00
