特許
J-GLOBAL ID：200903006757771920

化粧板及びその製造方法

発明者：
大島 正之

大島 正之 について


出願人/特許権者：
大建工業株式会社

大建工業株式会社 について


代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-027230
公開番号（公開出願番号）：特開2002-225191
出願日： 2001年02月02日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：
【要約】【課題】 表面に高い防汚性と洗浄性、脱臭性、抗菌性を同時に有する化粧板及びその製造方法を提供するにある。【解決手段】 化粧板形成用の基板(1)と、前記基板(1)の表面に積層一体化された熱硬化性樹脂含浸化粧紙(2)と、前記熱硬化性樹脂含浸化粧紙(2)の表面に積層一体化された合成樹脂フィルム(3)と、前記合成樹脂フィルム(3)の表面に塗工された半導体光触媒を含む透明性コーティング層(4)とから構成する。
請求項（抜粋）：
化粧板形成用の基板と、前記基板の表面に積層一体化された熱硬化性樹脂含浸化粧紙と、前記熱硬化性樹脂含浸化粧紙の表面に積層一体化された合成樹脂フィルムと、前記合成樹脂フィルムの表面に塗工された半導体光触媒を含む透明性コーティング層とから構成されていることを特徴とする化粧板。
IPC (3件)：
B32B 27/04 ,  B32B 9/00 ,  E04F 13/08
FI (3件)：
B32B 27/04 A ,  B32B 9/00 A ,  E04F 13/08 A
Fターム (47件)：
2E110AA65 ,  2E110AB04 ,  2E110AB23 ,  2E110AB43 ,  2E110BA04 ,  2E110BA12 ,  2E110BB03 ,  2E110BB04 ,  2E110GA32W ,  2E110GA32Z ,  2E110GA33X ,  2E110GB05W ,  2E110GB16X ,  2E110GB17X ,  2E110GB43W ,  2E110GB43Z ,  2E110GB62X ,  2E110GB63Z ,  4F100AA20 ,  4F100AA20H ,  4F100AA21 ,  4F100AA21H ,  4F100AK01B ,  4F100AK01C ,  4F100AK42 ,  4F100AK44 ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100CA30D ,  4F100CC00D ,  4F100DG10B ,  4F100EH012 ,  4F100EH461 ,  4F100EH463 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ202 ,  4F100EJ82B ,  4F100GB81 ,  4F100HB00B ,  4F100JB13B ,  4F100JC00 ,  4F100JL06 ,  4F100JL08D ,  4F100JN01D
引用特許：
審査官引用 (15件)
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