特許
J-GLOBAL ID:200903006758357078
耐溶媒感光性組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-585316
公開番号(公開出願番号):特表2002-531615
出願日: 1999年11月24日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】フォトレジスト組成物および方法は、幅広い範囲の有機溶媒に安定かつ不浸透性であるフォトレジストフィルムを調製するために提供される。本明細書で提供されるフォトレジストフィルムは、選択的に光を当てることによって、フォトパターン化し得、そして非反応性薬剤を使用して表面から剥離され得る。フォトパターン化フィルムを使用して、例えば、ミクロスケール分解能で選択的固相化学合成を局部的に実施する目的のために、有機試薬を固体支持体に選択的に向け得る。
請求項(抜粋):
以下の式によって示される、複数の繰り返し単位を含む、光活性ポリアミド誘導体であって:【化1】ここで、該複数の繰り返し単位のZの20〜100パーセントが、以下の式によって示される二価の基を含み:【化2】ここで、Rは、二価の基であり;ここで、該複数の繰り返し単位の残りのZは、以下の式によって示される二価の基を含み:【化3】そして、ここで、該複数の繰り返し単位のYの10〜100パーセントが、イソフタロイル基を含み、そして、該複数の繰り返し単位の残りのYは、テレフタロイル基を含む、光活性ポリアミド誘導体。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (46件):
2H025AA06
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE05
, 2H025FA17
, 4J001DA01
, 4J001DB01
, 4J001DB02
, 4J001DB03
, 4J001DB04
, 4J001DC14
, 4J001DC16
, 4J001DD03
, 4J001DD08
, 4J001DD13
, 4J001EB28
, 4J001EB36
, 4J001EB37
, 4J001EC45
, 4J001EC46
, 4J001EE08A
, 4J001EE12A
, 4J001EE12C
, 4J001EE14A
, 4J001EE22C
, 4J001EE23C
, 4J001EE47D
, 4J001EE65D
, 4J001FB03
, 4J001FB05
, 4J001FC03
, 4J001FC05
, 4J001FD01
, 4J001FD03
, 4J001FD05
, 4J001GA13
, 4J001GD02
, 4J001GD05
, 4J001GD07
, 4J001GD08
, 4J001JA20
, 4J001JB32
, 4J001JB33
, 4J001JB41
, 4J001JC02
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