特許
J-GLOBAL ID:200903006761689065

高周波誘導結合プラズマ質量分析装置のイオン導入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 韮澤 弘 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-000985
公開番号(公開出願番号):特開平6-203791
出願日: 1993年01月07日
公開日(公表日): 1994年07月22日
要約:
【要約】【目的】 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置において、ICPから分析試料のイオンをより多く効率的にMSに導入するようにする。【構成】 ICP-MSのインターフェイス部20を2段の差動排気構造から3段の差動排気構造に変更し、その2段目と3段目を引出し電極6によって分け、より真空度の高い3段目内にフォーカス電極7等のイオンレンズ系を配置し、イオン輸送途中の空間での衝突によるロスを少なくし、かつ、イオン取込み口の入口スリット9を広げて、ICPからイオンをより多く効率的にMSに導入するようにする。
請求項(抜粋):
高周波誘導結合プラズマイオン源と質量分析装置とを結合するイオン導入装置において、該イオン導入装置を3段差動排気構造にし、3段目の真空室のイオン導入口をイオンレンズ系の一部の電極と兼用して構成したことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析装置のイオン導入装置。
IPC (2件):
H01J 49/10 ,  G01N 27/62

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