特許

J-GLOBAL ID：200903006768801855

光導波路形成方法、これに用いる電着液および光導波路製造装置

発明者： 清水 敬司 ,  大津 茂実 ,  谷田 和敏 ,  圷 英一
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-010240
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333538
出願日： 2002年01月18日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：

【要約】【課題】 解像度に優れた微細パターン形成を簡易に行なえ、有害廃液が少ない、電着法または光電着法を用いることにより、精度のよい光導波路を簡易にまた量産性よく作製する方法およびその装置を提供すること。【解決手段】 絶縁性基板上に、導電性薄膜および光半導体薄膜または導電性薄膜を積層した光導波路作製基板を、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成材料を含む水系の電着液に、光半導体薄膜または導電性薄膜が電着液に接触するように配置した状態で、前記光半導体薄膜に光を照射して光半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加するか、あるいは導電性薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記半導体薄膜または導電性薄膜の上に前記材料を析出形成させる工程、またはさらに析出した材料を他の基板に転写させる工程を含む光導波路形成方法。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板上に導電性薄膜および光半導体薄膜をこの順に積層した光導波路作製基板を、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成材料を含む水系の電着液に、前記光導波路作製基板の少なくとも前記光半導体薄膜が電着液に接触するように配置した状態で、前記光半導体薄膜の選択領域に光を照射することにより選択領域の光半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記半導体薄膜の選択領域に前記材料を析出形成する工程を含む光導波路形成方法。

IPC (6件)：

G02B 6/13 ,  C25D 13/00 301 ,  C25D 13/00 309 ,  C25D 13/12 ,  C25D 13/22 ,  G02B 6/12

FI (6件)：

C25D 13/00 301 ,  C25D 13/00 309 ,  C25D 13/12 Z ,  C25D 13/22 Z ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

Fターム (5件)：

2H047KA03 ,  2H047PA01 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43