特許
J-GLOBAL ID：200903006772826935

チタン酸化被膜の形成方法およびチタン電解コンデンサ

発明者：
新井 良幸

新井 良幸 について


出願人/特許権者：
東邦チタニウム株式会社

東邦チタニウム株式会社 について


代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-385056
公開番号（公開出願番号）：特開2002-180291
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 誘電率が大きく安定な酸化被膜をチタン表面に形成する方法を通して小型で大容量でかつ漏洩電流の小さいチタン電解コンデンサの提供。【解決手段】 表面に厚さ50nm以上の酸化被膜を有する金属チタン基体を真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で焼成して、酸化被膜の厚さを50nm未満とし、その後酸化処理することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成する金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。これを利用して、再形成された酸化被膜を有する金属チタン基体を陽極として使用するチタン電解コンデンサ。
請求項（抜粋）：
表面に厚さ50nm以上の酸化被膜を有する金属チタン基体を真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で焼成して、該酸化被膜の厚さを50nm未満とし、その後該焼成した金属チタン基体表面を酸化処理することにより該金属チタン基体表面に酸化被膜を再形成することを特徴とする金属チタン基体上への酸化被膜の形成方法。
IPC (3件)：
C25D 11/26 302 ,  H01G 9/04 301 ,  H01G 9/00
FI (3件)：
C25D 11/26 302 ,  H01G 9/04 301 ,  H01G 9/24 B
引用特許：
出願人引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM