特許

J-GLOBAL ID：200903006779725948

廃液の処理方法及びその装置

発明者： 石田 文男 ,  北爪 好文
出願人/特許権者： 太陽化学工業株式会社 ,  富士プラント株式会社
代理人 (1件)： 佐野 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031228
公開番号（公開出願番号）：特開平9-052099
出願日： 1996年01月26日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【目的】高濃度めっき廃液や感光性樹脂含有廃液を簡単かつ安価に処理すること。【構成】濃縮蒸留工程により得られた蒸留液を微生物処理(活性汚泥処理及び接触酸化処理の少なくとも1つ)する廃液の処理方法。その濃縮蒸留装置と微生物処理装置を有する廃液の処理装置。【効果】不揮発分と揮発分を蒸留分離した後、揮発分については比較的低いCOD、BOD濃度で微生物難分解性物質が含まれていないので、効率良く微生物処理ができる。方法は簡単で操作も容易であるから、安価に行え、中小事業所においても利用し易い。

請求項（抜粋）：

廃液の被処理液を濃縮蒸留する濃縮蒸留工程と、該濃縮蒸留工程を経て得られた蒸留液を微生物処理する微生物処理工程を少なくとも有する廃液の処理方法。

IPC (8件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 1/04 CCU ,  C02F 3/02 CDR ,  C02F 3/12 CDP ,  C02F 3/28

FI (9件)：

C02F 9/00 502 B ,  C02F 9/00 502 H ,  C02F 9/00 501 A ,  C02F 9/00 501 D ,  C02F 9/00 503 Z ,  C02F 1/04 CCU Z ,  C02F 3/02 CDR Z ,  C02F 3/12 CDP V ,  C02F 3/28 Z