特許
J-GLOBAL ID：200903006786051677
ほう素を除去した純水又は超純水の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-043130
公開番号（公開出願番号）：特開平8-238478
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】 純水又は超純水製造装置に組み込まれて使用されるほう素選択性イオン交換樹脂からのTOC溶出量を低減させる。【構成】 弱塩基性交換基を遊離塩基形に調製しかつ強塩基性交換基を塩形に調製したほう素選択性イオン交換樹脂に、被処理水である純水又は超純水を接触させて、該被処理水中のほう素イオンを除去させる。
請求項（抜粋）：
被処理水である純水又は超純水を、弱塩基性交換基であるグルカミン交換基及び強塩基性交換基を有するほう素選択性イオン交換樹脂に接触させて該被処理水中のほう素イオンを除去した純水又は超純水を製造する方法において、上記ほう素選択性イオン交換樹脂の弱塩基性交換基を遊離塩基形に調製しかつ強塩基性交換基を塩形に調製して用いることを特徴とするほう素を除去した純水又は超純水の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C02F 1/42 B
, C02F 1/42 A
, B01J 47/00 A
