特許

J-GLOBAL ID：200903006790881099

ポリフェニレン化合物及びその製造方法

発明者： 市村 眞理 ,  上野 慶子 ,  柴沼 徹朗 ,  高田 一範
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-125202
公開番号（公開出願番号）：特開2002-322100
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】良好な発光効率を与え、極めて結晶化し難く、均一性のあるアモルファス性薄膜を形成するスピロ型ポリフェニレン化合物と、その製造方法を提供すること。【解決手段】【化23】一般式(1):(但し、前記一般式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ独立した、炭素数10以下のアルキル基であってよい。)で表されるポリフェニレン化合物。また、ピナコールボロン化合物と、テトラブロモ化合物とを遷移金属触媒(例えばパラジウム触媒)を用いてSuzukiカップリングさせることによって、上記一般式(1)で表されるポリフェニレン化合物を得る、ポリフェニレン化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるポリフェニレン化合物。【化1】一般式(1):(但し、前記一般式(1)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は、それぞれ独立した、炭素数10以下のアルキル基であってよい。)で表されるポリフェニレン化合物。

IPC (6件)：

C07C 13/28 ,  C07C 1/32 ,  C08G 61/10 ,  C09K 11/06 610 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (7件)：

C07C 13/28 ,  C07C 1/32 ,  C08G 61/10 ,  C09K 11/06 610 ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 B ,  H05B 33/22 D

Fターム (15件)：

3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC24 ,  4J032CA03 ,  4J032CB01 ,  4J032CC01 ,  4J032CE24 ,  4J032CG03