特許
J-GLOBAL ID:200903006800108032
回転加熱処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
村迫 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-121626
公開番号(公開出願番号):特開2001-304762
出願日: 2000年04月21日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】【課題】 ロータリーキルン形式の加熱処理装置に於いて、加熱円筒体が熱膨張により伸縮変形する際に、回転する加熱円筒体の摺動面のシール部材が偏った変形をしないようにして、処理装置内の分解ガス等が加熱円筒体の外部に漏洩したり、外気が装置内に侵入するのを防止する。【解決手段】 加熱炉H内に加熱円筒体1を横置きにして回転可能に設けて加熱処理部Cを形成して、前記加熱円筒体1を加熱炉外の両側端部に設けた複数の受けローラRにより回転自在に支持すると共に、該円筒体1とその両端部に連結された供給装置Bと排出装置Dの筺体部7との間にグランドパッキンからなるシール部材5を設けて摺動可能に密封して、前記筺体7を連結開口部に形成した支持体10に設けた支持ローラ6を介して前記加熱円筒体1上に動的係合となるように載置して変位可能に支持して、被処理物を加熱処理するようにして回転加熱処理装置を構成する。
請求項(抜粋):
被処理物を移送しつつ加熱処理する外熱式の加熱円筒体を両端部が炉外に突出するようにして加熱炉内に横置きに回転可能に設けて加熱処理炉を形成し、前記円筒体の一端部には被処理物を供給する装置に連結する筺体を設けると共に、他端には被処理物を排出する装置に連結する筺体を設けて構成する回転加熱処理装置に於いて、前記加熱円筒体は前記加熱炉外の両側端部で複数の支持ローラにより回転自在に支持されており、また、前記加熱円筒体は、該円筒体の両端部に連結される筺体との間にシール部材を介して摺動可能に密封されると共に、前記筺体は、前記加熱円筒体上に動的係合支持部材を介して変位可能に支持されてなることを特徴とする回転加熱処理装置。
IPC (10件):
F27B 7/24
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 302
, B09B 3/00
, F23G 5/20 ZAB
, F27B 7/08
, F27B 7/32
, F27B 7/33
, F27B 7/34
, F27D 7/02
FI (10件):
F27B 7/24
, B09B 3/00 302 E
, F23G 5/20 ZAB A
, F27B 7/08
, F27B 7/32
, F27B 7/33
, F27B 7/34
, F27D 7/02 A
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 303 H
Fターム (25件):
3K061BA06
, 3K061KA02
, 3K061KA10
, 4D004AA46
, 4D004AC05
, 4D004CA24
, 4D004CA26
, 4D004CA42
, 4D004CB09
, 4D004CB33
, 4D004CB36
, 4D004CB42
, 4D004CB43
, 4K061AA08
, 4K061BA12
, 4K061CA21
, 4K061DA05
, 4K061FA06
, 4K061FA11
, 4K063AA05
, 4K063AA18
, 4K063BA13
, 4K063CA02
, 4K063DA22
, 4K063FA36
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