特許
J-GLOBAL ID:200903006801447507

ハロメチル基を有するアゾ系重合開始剤及びこの重合剤を用いて得た高分子重合開始剤とこれ等の重合開始剤を用いたブロック重合体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 秀夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-361279
公開番号(公開出願番号):特開平5-202112
出願日: 1991年12月26日
公開日(公表日): 1993年08月10日
要約:
【要約】【目的】 低温重合開始基と高温重合開始基とを同一分子内に有する、開始剤およびどちらか一方の開始基を有する高分子重合開始剤とこれ等の重合開始剤を用いてブロック共重合体を製造する方法を提供する。【構成】 一般式(1)で示されるハロメチル基を有するアゾ系重合開開始剤一般式(1)【化1】(ここでR1は-CO-O-CmH2m-、-CnH2n-CO-O-CmH2m-又は、-CnH2n-O-CO-CmH2m-を示し(nmは1〜10の自然数を示す)、R2は単素数1〜5のアルキル基を示し、Yは少なくとも1個以上のハロゲンを有する、ハロメチル基を示す。)と、この重合開始剤を用いて重合して得たどちらか一方の開始基を有する高分子重合開始剤と、これ等の重合開始剤を用いてブロック重合体を製造する方法である。
請求項(抜粋):
一般式(1)で示されるハロメチル基を有するアゾ系重合開始剤一般式(1)【化1】(ここでR1は-CO-O-CmH2m-、-CnH2n-CO-O-CmH2m-又は、-CnH2n-O-CO-CmH2m-を示し(n,mは1〜10の自然数を示す)、R2は単素数1〜5のアルキル基を示し、Yは少なくとも1個以上のハロゲンを有する、ハロメチル基を示す。)
IPC (3件):
C08F 4/04 MEG ,  C08F295/00 MRK ,  C07C255/66

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