特許

J-GLOBAL ID：200903006803667776

光学反射ミラー、光学反射ミラーの製造方法、位置決め装置、半導体装置の製造方法

発明者： 久保 博義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-250201
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057419
出願日： 2001年08月21日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】SiC-Siセラミック等を含む炭化珪素系セラミックからなる基材上に形成された光学反射ミラーにおいて、十分な反射率を実現し、環境の変化に左右されない高い性能を実現する。【解決手段】炭化珪素系セラミック基材11の少なくともミラー面となる面に、化学気相成長(CVD)法によりSiC膜12を形成し、SiC膜12上にAl膜13を積層してHe-Neレーザ用光学反射ミラーを作製する。

請求項（抜粋）：

炭化珪素系セラミック基材の少なくともミラー面となる面に形成されたSiC膜と、該SiC膜上に形成されたAl膜とが少なくとも積層されてなることを特徴とする光学反射ミラー。

IPC (5件)：

G02B 5/08 ,  G02B 7/198 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

G02B 5/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 503 A ,  G02B 7/18 B

Fターム (16件)：

2H042DA02 ,  2H042DA12 ,  2H042DA15 ,  2H042DA18 ,  2H043BB05 ,  2H043BB07 ,  2H043BC01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031HA57 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046DB05 ,  5F046DB11 ,  5F046DC12