特許
J-GLOBAL ID：200903006805937312
位相差露光法およびこれに用いる位相差マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-280948
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034898
出願日： 1991年08月01日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】[目的] 段差を有するウエハにパターニング出来る位相差マスクおよび位相差露光法を提供する。[構成] 共通のマスク基板110の位相差露光法領域106に、マスクの投射光のコントラストを増加するための第1および第2位相シフタ112および114と、投射光の結像位置を決めるための第1および第2サブ位相シフタ116および118とを組み合わせて設ける。2つのサブ位相シフタ116および118を用いる代わりに、1つのサブ位相シフタ130を用いても良い。遮光部120は設けても設けなくても良い。第1および第2位相シフタは、直接透過光に対して互いに反対方向に、90°±10°の位相差とする。第1および第2サブ位相シフタは、直接透過光に対して、(360 ゚±10°)、(180°±10 ゚)または(0 ゚と180°±10 ゚との間の値)のいずれかの位相差とする。
請求項（抜粋）：
マスク基板からの直接透過光の位相に対して位相シフトさせた位相シフト光を用いて感光層を位相差露光するに当たり、前記位相シフト光を、第1および第2位相シフト光と、第1および第2サブ位相シフト光とに分離し、該位相シフト光の分離は、(a)第1および第2位相シフト光には、前記直接透過光に対して、互いに反対方向に、90°±10 ゚の範囲内の適当な位相差を与え、(b)前記第1および第2サブ位相シフト光のいずれか一方を、前記直接透過光と同位相とし、かつ、他方には、該直接透過光に対しいずれかの方向に180°±10°の範囲内の適当な位相差を与えることにより行なうことを特徴とする位相差露光法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
