特許

J-GLOBAL ID：200903006816321054

加熱定着装置の再生方法

発明者： 谷口 靖
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 岸田 正行 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-192177
公開番号（公開出願番号）：特開平7-044037
出願日： 1993年08月03日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：

【要約】【目的】 加熱定着装置におけるヒーターもしくはフィルム上に形成した炭素膜が部分的に剥離したり傷が入ったりした場合、該炭素膜からなる潤滑保護膜を再生することにより、加熱定着装置の寿命を長期化し、コストを低減すること。【構成】 フィルム上、該フィルムと接触摺動するヒーターの絶縁保護膜または発熱抵抗体上の少なくとも一つに炭素膜からなる潤滑保護膜を有する加熱定着装置において、例えば、プラズマ室20、マイクロ波発振器25、真空槽27等を有するECRプラズマCVD装置により、前記炭素膜(DLC膜)を、アッシングにより除去した後、新たな炭素膜を形成する。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板上に設けられた通電により発熱する発熱抵抗体と、該発熱抵抗体と接触摺動するフィルムを有し、画像形成装置で使用される加熱定着装置であって、フィルムと接触摺動するヒーターの絶縁保護膜あるいは発熱抵抗体上、もしくはフィルム上の少なくとも一つに炭素膜からなる潤滑保護膜を有する加熱定着装置において、上記炭素膜をアッシングにより除去した後、新たな炭素膜を形成することを特徴とする加熱定着装置の再生方法。