光ファイバ及びそれを用いたファイバグレーティングの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：前田弘 , 小山廣毅 , 竹内宏 , 嶋田高久 , 竹内祐二 , 今江克実 , 藤田篤史 , 二宮克也 , 原田智雄 , 後藤高志 , 井関勝守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-157414
公開番号（公開出願番号）：特開2004-361526
出願日： 2003年06月03日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】紫外線を伝送するときや放射線が照射された環境下で使用されるときでも、伝送損失が低く、また、長時間の水素ドープ処理を必要とせずにファイバグレーティングを製造することができる光ファイバを提供する。【解決手段】光ファイバ10は、コア11と、コア11を覆うように設けられたクラッド12と、を備えた石英ガラス製のものである。光ファイバ10は、クラッド12にコア11に沿って延びる細孔12aが形成されている。クラッド12の細孔12aは、両端が封止され、且つ、内部に25°Cで1気圧以上となる量の水素ガスが充填されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

コアと、該コアを覆うように設けられたクラッドと、を備え、該クラッドに該コアに沿って延びる細孔が形成された石英ガラス製の光ファイバであって、上記クラッドの細孔は、両端が封止され、且つ、内部に25°Cで1気圧以上となる量の水素ガスが充填されている光ファイバ。

IPC (4件)：

G02B6/20 , G02B6/00 , G02B6/10 , G02B6/16

FI (4件)：

G02B6/20 Z , G02B6/00 376Z , G02B6/10 C , G02B6/16

Fターム (3件)：

2H050AA01 , 2H050AC62 , 2H050AC82

引用特許：

審査官引用 (1件)

特許第6496634号

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