特許

J-GLOBAL ID：200903006850369600

ガスハイドレートの製造方法

発明者： 佐々木 正和 ,  榮田 博
出願人/特許権者： 東洋エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-156298
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342590
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 メタンのガスハイドレート化に要するエネルギーを削減し、低い圧力、高い温度にてガスハイドレートを製造し、さらに、容易にメタンリッチガスを取り扱う方法を提供すること。【解決手段】 メタンリッチガスを生成促進剤の共存下で水和し、メタンをH型ガスハイドレートとして生成させるガスハイドレートの製造方法。H型ガスハイドレートの一単位当たりの水の化学量論量は、34分子である。さらに、メタンリッチガスを生成促進剤の共存下で水和し、メタンをH型ガスハイドレートとして生成させ、固形化状態で輸送又は貯蔵を行う。生成促進剤としては、例えば、C4〜C12の炭化水素を用いることができる。

請求項（抜粋）：

メタンリッチガスを生成促進剤の共存下で水和し、メタンをH型ガスハイドレートとして生成させることを特徴とするガスハイドレートの製造方法。

IPC (5件)：

C10L 3/06 ,  C07B 63/02 ,  C07C 7/152 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00

FI (5件)：

C07B 63/02 B ,  C07C 7/152 ,  C07C 9/04 ,  F17C 11/00 B ,  C10L 3/00 A

Fターム (11件)：

3E072EA10 ,  4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC90 ,  4H006AC93 ,  4H006AD15 ,  4H006AD33 ,  4H006BA49 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BE60