水素発生装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263651
公開番号（公開出願番号）：特開2002-068702
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】水素発生量を長時間一定に維持でき且つ小型化の可能な水素発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、触媒を収容する容器2内に水及び錯金属水素化物を供給して錯金属水素化物を触媒の存在下で加水分解せしめて水素を発生させる水素発生装置であって、容器2内に水を供給する容器3と、容器2内に錯金属水素化物を供給する容器4と、容器2における水溶液から水を回収する水回収装置と、水回収装置で回収される水を容器3に返送する返送手段L8とを備える。この場合、容器3、容器4のそれぞれから水および錯金属水素化物が容器2内に供給されると、容器2において錯金属水素化物が触媒の存在下に加水分解され水素が発生する。一方、水回収装置により容器2における水溶液から水が回収され、返送手段L8により容器3へ返送される。

請求項（抜粋）：

触媒を収容する第1の容器内に水及び錯金属水素化物を供給して、錯金属水素化物を触媒の存在下で加水分解せしめて水素を発生させる水素発生装置であって、前記第1の容器内に水を供給する第2の容器と、前記第1の容器内に錯金属水素化物を供給する第3の容器と、前記第1の容器における水溶液から水を回収する水回収装置と、前記水回収装置で回収される水を前記第1の容器に返送する返送手段と、を備えることを特徴とする水素発生装置。

IPC (5件)：

C01B 3/06 , B01D 5/00 , B01D 61/44 500 , C02F 1/469 , H01M 8/06

FI (5件)：

C01B 3/06 , B01D 5/00 A , B01D 61/44 500 , H01M 8/06 R , C02F 1/46 103

Fターム (19件)：

4D006GA17 , 4D006KA31 , 4D006KB01 , 4D006MA13 , 4D006MA14 , 4D006PB27 , 4D006PC80 , 4D061DA10 , 4D061DB18 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB13 , 4D061EB17 , 4D061EB19 , 4D076BC01 , 4D076BC03 , 4D076HA20 , 5H027BA14 , 5H027DD05

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