特許
J-GLOBAL ID：200903006880703750

ガスケットとその製造方法

発明者：
神野 修

神野 修 について

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福田 大輔

福田 大輔 について

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富樫 康裕

富樫 康裕 について


出願人/特許権者：
大豊工業株式会社

大豊工業株式会社 について


代理人 (1件)： 神崎 真一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-237386
公開番号（公開出願番号）：特開2002-048238
出願日： 2000年08月04日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【解決手段】 ガスケット1は、ガスケット基板2上に第1ゴム層7と第2ゴム層8とを備えており、第1ゴム層7にはフッ素加硫ゴムなどの加硫ゴムを用い、第2ゴム層8には加熱加硫型シリコンゴムを用いている。上記ガスケット1を製造する際には、第1工程により第1ゴム層7を形成したら、加熱工程により第1ゴム層7を所定の時間加熱する。その後、第2工程により加硫シリコンゴム層からなる第2ゴム層8を形成する。【効果】 第2ゴム層8の加硫シリコンゴム層は、硬さが低く、未加硫ゴム層に比べて強度があるため、優れたシール性を長期間にわたって確保することができる。また、第2ゴム層8の加硫シリコンゴムは第1ゴム層7に用いられる加硫剤のアミンなどによって硬化阻害を起こすが、上記加熱工程により加硫剤を実質的に全て反応させることができるので、確実に加硫シリコンゴム層からなる第2ゴム層8を形成することができる。
請求項（抜粋）：
ガスケット基板上に第1ゴム層と第2ゴム層とを順次積層したガスケットにおいて、上記第1ゴム層を、加硫した加硫ゴム層に残留した未反応の加硫剤を実質的に全て反応させた第1ゴム層とし、また第2ゴム層を、加硫シリコンゴム層としたことを特徴とするガスケット。
IPC (2件)：
F16J 15/08 ,  F02F 11/00
FI (4件)：
F16J 15/08 N ,  F16J 15/08 Q ,  F02F 11/00 B ,  F02F 11/00 N
Fターム (10件)：
3J040EA15 ,  3J040EA17 ,  3J040EA27 ,  3J040EA48 ,  3J040FA01 ,  3J040FA06 ,  3J040FA07 ,  3J040HA01 ,  3J040HA02 ,  3J040HA17
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (11件)
  • 特開昭63-289376
  • 特開昭63-289376
  • 特開平1-227854
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