特許
J-GLOBAL ID:200903006896434024

オゾン濃度の低減方法及び調整方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-146991
公開番号(公開出願番号):特開2000-334468
出願日: 1999年05月26日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】オゾンを含有する排水の処理において、メンテナンスを必要とすることなく、溶存オゾン濃度を低減することができるオゾン濃度の低減方法、及び、電子材料などのウエット洗浄工程において、ユースポイントに所望の溶存オゾン濃度のオゾン含有水を容易に供給することができるオゾン濃度の調整方法を提供する。【解決手段】オゾン含有水を、ガラスと接触させることを特徴とするオゾン含有水のオゾン濃度の低減方法、及び、オゾン含有水をガラスと接触させ、所望濃度のオゾン含有水とすることを特徴とするオゾン含有水のオゾン濃度の調整方法。
請求項(抜粋):
オゾン含有水を、ガラスと接触させることを特徴とするオゾン含有水のオゾン濃度の低減方法。
IPC (2件):
C02F 1/58 ,  C11D 7/02
FI (2件):
C02F 1/58 H ,  C11D 7/02
Fターム (11件):
4D038AA01 ,  4D038AA08 ,  4D038AB27 ,  4D038BA02 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003EE03 ,  4H003FA48
引用特許:
審査官引用 (1件)

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