高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-308846
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165623
出願日： 1993年12月09日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】ポリマー原料として有用な1,3-シクロヘキサジエンを高純度で製造する事を目的とする。【構成】高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法に於いて以下の特徴を有する。1)原料が2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物である。2)上記混合物中のシクロヘキセニルハイドロパーオキシドの濃度が4重量%以下である。3)上記混合物を気相脱水反応に供する。【効果】極めて高純度の1,3-シクロヘキサジエンが得られ、触媒の活性低下も少ない。

請求項（抜粋）：

2ーシクロヘキセンー1ーオール、シクロヘキセンオキシド、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物から気相脱水反応により1,3-シクロヘキサジエンを製造するにあたり、原料混合物中のシクロヘキセニルハイドロパーオキシドの濃度が4重量%以下である事を特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造法。

IPC (6件)：

C07C 13/23 , B01J 27/18 , C07C 1/207 , C07C 1/24 , C07C 1/247 , C07B 61/00 300

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