特許
J-GLOBAL ID：200903006914640214
荷電粒子照射装置およびその運転方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232111
公開番号（公開出願番号）：特開平10-282300
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】荷電粒子ビームの照射野の境界における半影ボケを低減し、荷電粒子ビームの照射装置を小型化する。【解決手段】走査電磁石50,60が発生する磁場の方向および強度にかかわらず、荷電粒子ビーム中心が常に散乱体20の中心を通過するように、4極電磁石1〜5および偏向電磁石6〜8の磁場を制御する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを走査する走査磁石、および、前記荷電粒子ビームを散乱する散乱体と、前記散乱体で散乱された前記荷電粒子ビームを照射対象の形状に形成するコリメータとを備え、前記コリメータで成形された荷電粒子ビームを前記照射対象に照射する荷電粒子照射装置において、前記荷電粒子ビームが、前記走査磁石が発生する磁場の強度によらず、前記散乱体中のほぼ同じ通過点を通過することを特徴とする荷電粒子照射装置。
IPC (4件)：
G21K 5/04
, A61N 5/10
, G21K 1/093
, H01J 37/21
G21K 5/04 A
, A61N 5/10 D
, G21K 1/093 D
, H01J 37/21 Z
