特許

J-GLOBAL ID：200903006914816797

基板洗浄装置

発明者： 村岡 祐介 ,  荒木 浩之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 北谷 寿一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187677
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163506
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】【目的】 半導体基板などを表面洗浄する基板洗浄装置に関し、クリーンルームの省スペース化を図り、洗浄精度を高める。【構成】 クリーンルーム作業域30に臨む前方から保全用作業域31に臨む後方に向けて、カセットCの搬入搬出部51、基板移載部60、基板乾燥部70及び洗浄処理部65を順番に配置し、これらの一側に基板搬送ロボット75を配置し、洗浄処理部65を複数のオーバーフロー型の基板洗浄槽1aと酸洗浄槽1bとから構成して、当該洗浄槽1a、1bで複数種の洗浄処理をする。これにより、洗浄槽の数を減らしてクリーンルームの省スペース化を図れるうえ、洗浄が完了するまで基板Wが空気に触れるのを防止できる。

請求項（抜粋）：

基板収容カセットの搬入搬出部と、カセットから基板を取り出し又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部と、基板移載部でカセットから取り出した複数の基板を一括保持して上記洗浄処理部及び基板乾燥部に搬送する基板搬送ロボットとを具備して成る基板洗浄装置において、クリーンルーム作業域に臨む前方から保全用作業域に臨む後方に向かって前記カセットの搬入搬出部、基板移載部、基板乾燥部、洗浄処理部を順に配置するとともに、上記基板移載部・基板乾燥部・洗浄処理部の一側に基板搬送ロボットの移動部を配置し、上記洗浄処理部は、複数のオーバーフロー型の洗浄処理部より構成され、オーバーフロー型の各洗浄処理部は、洗浄槽と、洗浄槽の下部より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供給部と、洗浄槽よりオーバーフローした洗浄液を排液管へ排出する洗浄液排出部とを具備して成り、当該洗浄槽に順次供給される洗浄液により、基板を洗浄してから排液管に排出するように構成したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-068933
  
• 特開昭62-190729