特許
J-GLOBAL ID：200903006919561410
高周波焼入方法及び高周波焼入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 孝治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181258
公開番号（公開出願番号）：特開平10-008135
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 略お碗状のカップ部と、カップ部の外面から延設されたシャフト部と、カップ部からシャフト部にかけての外面の段部とを有するワークの段部の硬化層の有効深さをより大きくする。【解決手段】 略お碗状のカップ部WCと、その外面から延設されたシャフト部WSとを有し、カップ部WCからシャフト部WSにかけての外面に段部が形成されているワークWの前記段部に硬化層WMを形成する高周波焼入方法であって、シャフト部WSと段部とを同時に加熱する工程と、この工程の後にシャフト部WSと段部とに同時に冷却液を噴射しつつ、カップ部WCの内面側に冷却液を噴射する工程とを具備しており、前記シャフト部WSと段部とを同時に加熱する工程では、カップ部WCの内面側には冷却液を噴射しない、高周波焼入方法。
請求項（抜粋）：
略お碗状のカップ部と、このカップ部の外面から延設されたシャフト部とを有し、カップ部からシャフト部にかけての外面に段部が形成されているワークの前記段部に硬化層を形成する高周波焼入方法であって、シャフト部と段部とを同時に加熱する工程と、この工程の後にシャフト部と段部とに同時に冷却液を噴射しつつ、カップ部の内面側に冷却液を噴射する工程とを具備しており、前記シャフト部と段部とを同時に加熱する工程では、カップ部の内面側には冷却液を噴射しないことを特徴とする高周波焼入方法。
IPC (4件)：
C21D 9/00
, C21D 1/10
, C21D 1/42
, C21D 9/40
C21D 9/00 F
, C21D 1/10 H
, C21D 1/42 M
, C21D 9/40 A
, C21D 9/40 B
