特許

J-GLOBAL ID：200903006924237493

帯電防止膜、この膜を用いるリソグラフィー用マスクブランク及びリソグラフィー用マスク

発明者： 坂井 裕之 ,  折田 政寛 ,  竹内 恵
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-135295
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325560
出願日： 1995年06月01日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】 短波長側の透過率が良好で、充分な導電性を有する帯電防止膜、これを用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスクの提供。【構成】 一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はMg及びZnのうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はAl及びGaのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表され、かつM(1)、M(2)及びInのうちの少なくとも1種の元素の一部が、他の元素で置換されており、M(1)と置換される元素は原子価が2価以上であり、M(2)及びInと置換される元素は原子価が3価以上である帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表される酸化物に、陽イオンを注入したものである帯電防止膜。上記帯電防止膜を用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスク。

請求項（抜粋）：

一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はマグネシウム及び亜鉛のうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はアルミニウム及びガリウムのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される導電性酸化物からなることを特徴とする帯電防止膜。

IPC (3件)：

C09K 3/16 101 ,  C01G 15/00 ,  G03F 1/14

FI (4件)：

C09K 3/16 101 A ,  C01G 15/00 B ,  C01G 15/00 D ,  G03F 1/14 G

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 透明導電性酸化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346953   出願人：ホーヤ株式会社
• 透明電気伝導性酸化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-079215   出願人：新技術事業団
• 導電性酸化物およびそれを用いた電極
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-101321   出願人：ホーヤ株式会社

審査官引用 (1件)

• 透明導電性酸化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346953   出願人：ホーヤ株式会社