特許
J-GLOBAL ID:200903006924237493
帯電防止膜、この膜を用いるリソグラフィー用マスクブランク及びリソグラフィー用マスク
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-135295
公開番号(公開出願番号):特開平8-325560
出願日: 1995年06月01日
公開日(公表日): 1996年12月10日
要約:
【要約】【目的】 短波長側の透過率が良好で、充分な導電性を有する帯電防止膜、これを用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスクの提供。【構成】 一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はMg及びZnのうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はAl及びGaのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表され、かつM(1)、M(2)及びInのうちの少なくとも1種の元素の一部が、他の元素で置換されており、M(1)と置換される元素は原子価が2価以上であり、M(2)及びInと置換される元素は原子価が3価以上である帯電防止膜。前記一般式(但し、dの下限は0)で表される酸化物に、陽イオンを注入したものである帯電防止膜。上記帯電防止膜を用いたリソグラフィー用マスクブランク及びマスク。
請求項(抜粋):
一般式M(1)x M(2)y Inz O(x+3y/2+3z/2)-d (式中、M(1)はマグネシウム及び亜鉛のうちの少なくとも1つの元素であり、M(2)はアルミニウム及びガリウムのうちの少なくとも1つの元素であり、比率(x:y)が0.2〜1.8:1の範囲であり、比率(z:y)が0.4〜1.4:1の範囲であり、かつ酸素欠損量dが(x+3y/2+3z/2) の3×10-5〜1×10-1倍の範囲である)で表される導電性酸化物からなることを特徴とする帯電防止膜。
IPC (3件):
C09K 3/16 101
, C01G 15/00
, G03F 1/14
FI (4件):
C09K 3/16 101 A
, C01G 15/00 B
, C01G 15/00 D
, G03F 1/14 G
引用特許:
審査官引用 (1件)
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透明導電性酸化物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-346953
出願人:ホーヤ株式会社
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