特許

J-GLOBAL ID：200903006927434214

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 坂井 文夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-184046
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021715
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 1工程で2枚のレチクルを用いて重ね露光する2重露光方式において、装置本体の変形や振動の防止を図る。【解決手段】 パターンが形成された原版と被露光基板とを共に走査し、露光ビームを該原版に照射して該原版のパターンを前記被露光基板に露光する露光装置であって、原版を保持する第1のステージと、該第1のステージを移動させる第1の駆動手段と、該第1のステージが保持する原版とは別の原版を保持する第2のステージと、該第2のステージを移動させる第2の駆動手段とを備え、該第1および第2のステージのうちの一方のステージが該走査方向に移動するときに、他方のステージが該一方のステージと反対の方向に移動することを特徴とし、ステージの移動に伴う重心位置の変化や反力の発生を抑える。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された原版と被露光基板とを共に走査し、露光ビームを該原版に照射して該原版のパターンを前記被露光基板に露光する露光装置であって、原版を保持する第1のステージと、該第1のステージを移動させる第1の駆動手段と、該第1のステージが保持する原版とは別の原版を保持する第2のステージと、該第2のステージを移動させる第2の駆動手段とを備え、該第1および第2のステージのうちの一方のステージが該走査方向に移動するときに、他方のステージが該一方のステージと反対の方向に移動することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 528

Fターム (9件)：

5F046AA11 ,  5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB25 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13