特許
J-GLOBAL ID:200903006957589972

プラズマエツチング終点モニタリング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-243141
公開番号(公開出願番号):特開平5-102087
出願日: 1991年09月24日
公開日(公表日): 1993年04月23日
要約:
【要約】【目的】本発明は、微少な面積のエッチングに対しても十分な検出感度を有し、かつ正確に終点を検出できるプラズマエッチング終点モニタリング方法を提供することを目的とする。【構成】本発明は、異なる材質の層状積層物をプラズマエッチングする際に、エッチングの終点にかかわる被エッチング物の組成変化やエッチング速度の変化をプラズマエッチングチャンバー内の気相成分濃度の変化として、質量分析計によって観測するプラズマエッチングの終点モニタリング方法において、該プラズマエッチングチャンバーから質量分析計までの配管中のモニター物質の移動に要する時間及び信号処理時間等、放電開始から測定までに要する時間より十分長い時間のプラズマ放電休止時間を伴う、間欠的なプラズマ放電を行なう方法である。
請求項(抜粋):
異なる材質の層状積層物をプラズマエッチングする際に、エッチングの終点にかかわる被エッチング物の組成変化やエッチング速度の変化をプラズマエッチングチャンバー内の気相成分濃度の変化として、質量分析計によって観測するプラズマエッチングの終点モニタリング方法において、該プラズマエッチングチャンバーから質量分析計までの配管中のモニター物質の移動に要する時間及び信号処理時間等、放電開始から測定までに要する時間より十分長い時間のプラズマ放電休止時間を伴う、間欠的なプラズマ放電を行なうことを特徴とするプラズマエッチング終点モニタリング方法。
IPC (2件):
H01L 21/302 ,  C23F 4/00

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